5357cc拉斯维加斯游戏官网沟槽刻蚀

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5357cc拉斯维加斯游戏官网结构可实现功率器件的小型化和低电阻,我们提供实现5357cc拉斯维加斯游戏官网结构的干法刻蚀技术。

challenge

5357cc拉斯维加斯游戏官网形状的控制

在高耐压应用中,为了避免电解集中,5357cc拉斯维加斯游戏官网结构底部需要圆形

低刻蚀速率

5357cc拉斯维加斯游戏官网坚硬,是化学特性稳定的材料,很难实现高刻蚀速率

与SiO2掩膜的选择比

和SiO2掩膜的选择比低的话,需要厚的SiO2掩膜

解决方案

实现平滑的侧壁和圆形底部

优化刻蚀条件以控制5357cc拉斯维加斯游戏官网形状

700nm/min以上的刻蚀速率

实现高选择比

实现侧壁平滑度和高选择比的工艺

5357cc拉斯维加斯游戏官网
material 5357cc拉斯维加斯游戏官网
mask SiO2
size W 1um, D 2.1um
ER 700nm/min
Selectivity >8.0

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