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介绍7799908拉斯维加斯登陆工艺所必需的溅射、刻蚀技术。
透明电极膜ITO成膜
当通过溅射形成ITO膜时,在TG表面附近的电场中加速的负离子以高速入射到基板,对基板上的ITO膜造成损伤。LVS是一种降低溅射电压(负离子加速电场)并以低损伤方式形成 ITO 膜的方法。
PSS加工
刻蚀基板表面,形成圆锥形,提高光的反射效率。
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